High Resolution Auger Depth Profiling by Sub-keV Ion Sputtering

4^th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials & Devices,
ALC '03, October 5 - 10, 2003, Kauai, Hawaii, USA

" High Resolution Auger Depth Profiling by Sub-keV Ion Sputtering "
M. Inoue¹, R. Shimizu², H.I. Lee³ and H.J. Kang³
¹Department of Electric & Electronics Engineering, Setsunan University, Japan
²Faculty of Information Science & Technology, Osaka Institue of Technology, Japan
³Department of Physics, Chungbuk National University, Korea，（15分32秒）

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2003年10月にハワイ州カウアイ島で「新材料新デバイスの原子レベル分析国際会議, ALC '03」が開催されました。写真はこちら

このビデオの音声部分は，Mac OSX ver.10.4 Tiger の say コマンド（読み上げソフト）を使ってテキストファイルから合成したものです。( Kathy voice )

Sound of this video was synthesized from text file by "say" command of Mac OSX ver.10.4 Tiger ( Kathy voice )

2003.10 摂南大学工学部電気電子工学科井上雅彦

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